제품 카탈로그
제품
반도체 및 첨단 제조 공정을 위한 정밀 석영, 사파이어, 세라믹 부품.
부품 유형별
부품 유형별
튜브 & 라이너
프로세스 튜브, 퍼니스 라이너, 리액터 튜브
보트 & 캐리어
웨이퍼 보트, 캐리어, 보트 랙
링 & 플랜지
포커스 링, 실링 플랜지, 포지셔닝 링
플레이트 & 윈도우
관찰창, 배플, 디스크
챔버 & 벨자
반응 챔버, 벨자, 돔
맞춤 부품
도면 기반 가공
제품 카탈로그
제품 카탈로그
소재별 필터
유형별 필터
13 건
석영 확산 튜브
반도체 퍼니스용 고순도 용융 석영 확산 및 산화 튜브입니다. 4~12인치 웨이퍼 공정용 직관, 플랜지형, 벨엔드 구성을 지원합니다.
석영 웨이퍼 보트
수평 및 수직 확산로용 정밀 가공 용융 석영 웨이퍼 보트입니다. 4~12인치 웨이퍼용 25슬롯 표준 및 맞춤 슬롯 수를 지원합니다.
석영 플랜지 및 피팅
반도체 가스 라인과 퍼니스 튜브 조립용 정밀 가공 석영 플랜지, 리듀서, 엘보, 튜브 피팅입니다. 표준 금속 플랜지 인터페이스와 호환 가능합니다.
석영 포커스 링 및 에칭 링
플라즈마 에칭 및 CVD 챔버용 정밀 가공 용융 석영 포커스 링, 에칭 링, 엣지 링입니다. ±0.01 mm 공차와 Ra 0.1 μm 표면 마감을 지원합니다.
석영 벨자 및 돔
CVD, 에피택시, 스퍼터링 반응기 인클로저용 성형 용융 석영 벨자와 돔입니다. 최대 500 mm 직경과 기밀 용접 플랜지를 지원합니다.
석영 세정 탱크
HF, SC-1, SC-2, 피라냐 등 반도체 습식 세정 공정을 위한 용접 용융 석영 탱크입니다. 단일 및 캐스케이드 구성, 맞춤 크기를 지원합니다.
석영 가스 인젝터 및 샤워헤드
CVD, ALD, 확산 퍼니스 시스템에서 균일한 가스 분포를 구현하는 다공 석영 가스 인젝터와 샤워헤드입니다. 홀 배열 위치 정확도 ±0.02 mm까지 지원합니다.
석영 반응 튜브
에피택시, CVD, RTP 시스템용 고순도 용융 석영 반응 튜브입니다. 폴리싱 내경, 사이드 포트, 정밀 연삭 플랜지를 지원합니다.
석영 뷰포트 윈도우
반도체 공정 챔버 모니터링용 광학 폴리싱 석영 및 사파이어 뷰포트 윈도우입니다. UV부터 중적외선까지 투과하며 금속 또는 CF 플랜지 기밀 구조를 지원합니다.
석영 배플 및 인서트
반도체 퍼니스 튜브, 확산 시스템, CVD 반응기용 맞춤 가공 용융 석영 배플, 라이너, 열 차폐 부품입니다.
사파이어 윈도우 및 옵티컬 플랫
반도체 공정 챔버용 단결정 사파이어 윈도우와 옵티컬 플랫입니다. UV부터 중적외선까지 투과, Ra < 0.1 nm, 우수한 플라즈마 및 내화학성을 제공합니다.
세라믹 웨이퍼 캐리어 및 보트
고온 반도체 공정을 위한 고순도 알루미나 및 실리콘카바이드 웨이퍼 캐리어, 보트, 카세트입니다. 우수한 내마모성과 열충격 저항성을 제공합니다.
맞춤형 정밀 부품
용융 석영, 사파이어, 기술 세라믹 부품의 도면 기반 맞춤 제작입니다. 시제품부터 양산까지 형상과 사양에 맞춰 지원합니다.